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臭氧中和器 详细摘要: CIF臭氧中和器(UVO-N)是紫外臭氧清洗机配套的臭氧去除设备。主要是通过纳米级金属氧化物催化剂分解臭氧,以及利用臭氧的不稳定性加速臭氧快速流动从而达到快速去...
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实验室(进样 Squirt Sampling Pump) 详细摘要: CIF为科研实验专门推出一种高精度微量流体传输-SP-2型。它采用高强度航空轴承、优异的控制系统和精密的机械结构,使用寿命更长,精度更高。主要参数:CIF为科研...
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紫外臭氧清洗机UVO13 详细摘要: 紫外臭氧清洗机(UVOzone Cleaner, UVO),是一种简单,经济,快速高效的材料表面清洗设备,能快速去除大多数无机基材(比如石英,硅片,金,镍,铝,...
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紫外臭氧清洗机UVO9 详细摘要: 紫外臭氧清洗机(UVOzone Cleaner, UVO),是一种简单,经济,快速高效的材料表面清洗设备,能快速去除大多数无机基材(比如石英,硅片,金,镍,铝,...
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CIF等离子体汽化接枝仪 详细摘要: CIF等离子体汽化接枝仪(CPV-G)为等离子体表面处理仪的配套设备,主要用于将液态原料汽化并以一定的流量输入等离子体表面处理仪的反应腔内,以进行材料表面的接枝...
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CIF等离子清洗机G系列 详细摘要: CIF推出的新一代等离子清洗机除具备上一代等离子清洗机的特点外,其外观美学设计,结构紧凑,漂亮大气;优化的腔体结构,处理样品量更大,适用范围更广;大弧形等离子激...
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CIF等离子清洗机F系列 详细摘要: CIF推出的新一代等离子清洗机除具备上一代等离子清洗机的特点外,其外观美学设计,结构紧凑,漂亮大气;优化的腔体结构,处理样品量更大,适用范围更广;大弧形等离子激...
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等离子表面处理仪 详细摘要: CIF等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬,产品性能稳定可靠,主要核心部件全部采用。主要参数:CIF等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬,产...
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Spin Coater 详细摘要: CIF匀胶机转速稳定、启动迅速,旋涂均匀,操作简单,结构紧凑实用,为实验室提供了理想的解决方案。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学,硅片...
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匀胶旋涂仪 详细摘要: CIF匀胶机转速稳定、启动迅速,旋涂均匀,操作简单,结构紧凑实用,为实验室提供了理想的解决方案。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学,硅片...
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透射电镜样品杆存储仪 详细摘要: CIF 透射电镜(TEM)样品杆存储仪采用无油隔膜泵,通过抽真空产生100 Pa恒定洁净无污染的真空环境,特别适用于TEM透射电镜样品杆的日常真空储存或水汽去除...
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透射电镜样品杆清洗机 详细摘要: CIF透射电镜(TEM)样品杆清洗机采用双等离子清洗源设计,自动切换,一机多用,清洗快速高效。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤,同时可实现常规等离子清洗功能。...
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紫外臭氧清洗机UVO5 详细摘要: 紫外臭氧清洗机(UVO),是一种简单,经济,快速高效的材料表面清洗设备,能快速去除大多数无机基材(比如石英,硅片,金,镍,铝,砷化镓,氧化铝等)上的有机污染物。...
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匀胶机 详细摘要: CIF匀胶机转速稳定、启动迅速,旋涂均匀,操作简单,结构紧凑实用,为实验室提供了理想的解决方案。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学,硅片...
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烤胶机 详细摘要: CIF烤胶机采用智能程序化控温技术,控温精准均匀,加热快速高效,维修简单方便,控温范围在室温-360℃之间,控温精度达到0.1℃。适用于各种控温精度高,加热均匀...
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石墨烤胶机 详细摘要: CIF石墨烤胶机主要用于对金属敏感的样品,除具备PH18烤胶机产品特点外,更重要的是加热模块整体材质无任何金属附件,机箱整体采用石墨材质,表面PFA涂层,耐高温...
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扫描电镜等离子清洗机 详细摘要: CIF 扫描电镜(SEM)等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计,并可自动切换,一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤,同时可实现常规等离子清洗。主...
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粉体等离子清洗机CPC-C-13.56 详细摘要: 等离子体作用在粉体上,可以有目的地改变粉体的物理化学性质,在保持粉体原有性能的前提下,赋予其表面新的性能,使其表面性质由疏水性变为亲水性或由亲水性变为疏水性,从...
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粉体等离子清洗机CPC-C 详细摘要: 等离子体作用在粉体上,可以有目的地改变粉体的物理化学性质,在保持粉体原有性能的前提下,赋予其表面新的性能,使其表面性质由疏水性变为亲水性或由亲水性变为疏水性,从...
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CIF等离子清洗机CPC-B 详细摘要: CIF等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬,产品性能稳定可靠,主要核心部件全部采用。主要参数:CIF等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬,产...
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